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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

投资项目后台 该半导体设备制造厂小区是在西北各地,总活动投资以上200万元,其主要制造124英寸晶圆和高级芯片封装品牌。小区日的排出废蓄水量约5000吨,涵盖许多工序污电镀废水处理工艺 ,外理高难度大。活动要求污电镀废水处理工艺 外理后起到《光电子企业水污染破坏物的排出要求》(GB 39731-2020)特别的排出规定值,部门回收利用率不大于60%。 电镀废水材质及特征 含氟废水处理:主要的来自五湖四海晶圆蚀刻、洗工步,氟化合物氨水浓度超过200-500mg/L,pH值波动性大 有机物会生产废水:光刻、成像、去胶等工艺程序产生了,COD含量300-800mg/L,含带异丙醇、二甲苯等有机物会相转移催化剂 含铜废水处理工艺:真空镀膜、电学自动化打磨(CMP)加工过程带来,铜阴阳离子氧化还原电位50-150mg/L 腐蚀性废液:装备洗、的废气干洗等基本原则发生,pH值在2-12彼此价格波动 打磨废气:CMP道工序造成,含納米级二氧化物硅小粒 整理的工艺生产工艺流程 通过"分类整理征集+分质加工+深层洁净"的组合式加工过程: 含氟废水正确处理正确处理线 : 多级化学式石雕文化析出:先添加氯化钙调准pH至6-7,多加入PAC和PAM二沉池石雕文化析出 灵活性空气氧化铁吸出:加强组织领导氟铁离子氧浓度降为5mg/L如下 活性污泥经板框压滤后委托人靠谱代理 巧妙焦化废水补救线 : 微电解设备抛光预解决:铁碳微电解设备抛光吸附大碳原子有机的物 UASB活性污泥法响应器:HRT=24h,COD清除率>60% MBR膜微生物影响器:通过PVDF中空玻璃窗玻纤膜,通量15LMH 含铜废污水处置线 : 化工水解:污泥脱水NaOH上下调整pH至9-10,组成Cu(OH)2水解 阴阳正离子变换:两极光敏树脂变换确保安全铜阴阳正离子<0.3mg/L 钛电极法二手利用:这部分生活污水经钛电极法二手利用金属制铜 综上治疗软件 : 调准池:均匀水体质量容量,设曝气池混合 水泥混凝土结晶:加药系统黏结水解酸化池剂除去悬浊液有机化合物 二钝化碳离子液体钝化:生物降解塑料难生物降解塑料有机会物 反参透程序:脱盐率>98%,产水循环于生产制造线 生活污水整理装置 : 厌氧颗粒污泥高浓池:物质氧化还原电位从1%发展至3% 离心分离出现脱水:注入PAM慢慢调理,泥饼含水量率<75% 高低温干化:要素污泥干化干化至含水量率30%下列 决定作用 工作竣工工作后,各类依据平衡标淮:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴阳离子<0.3mg/L、pH 6-9。造纸废水处理水水质标淮达标GB/T 19923-2005化工用清水标淮,造纸废水处理率65%,几乎每年节约用电刚采水用药量约115万吨。废水导致量增多40%,危险性废料外理投资成本下降35%。系统全全自动化度高,在线视频监控统计数据与环保性政府部门时实下载客户端。

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