天津某半导体设备基带芯片制作业厂，晶圆粗加工环节中存在含硅、氟的特别焦化生活污水，设置处置规模较1200吨/日。焦化生活污水因素冗杂，内含nm级硅粒子及盐酸，以往处置步骤根本无法及格。 生活污水化学成分及从何而来 大部分弄脏物 ：悬浊液硅（100-500nm粒级）、氟铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 特征步骤 ：晶圆刻蚀废鑫霖环保（45%）、CMP电学机械设施设备制造cnc精密机械加工废鑫霖环保（40%）、设施设备清洗阴道水（15%） 治理 工艺技术步奏 改革创新用到"化学物质悠长岁月中+特殊膜分离法"技艺行车路线： 钙盐沉定 ：污泥脱水氯化钙祛除氟阴阳离子（提取CaF2沉淀出的） 水解酸化池响应 ：结合水解酸化池剂变现胶体溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm管径膜截流微细粒状 超滤工作会更装置 ：脱盐率>98%，收购 率75% 挥发凝结 ：浓水段达到氟化物零尾气排放标准 然后疗效 氟化物盐浓度：<8mg/L（不超过一个国家1级标准规定10mg/L） 硅的含量：<5mg/L 水影视资源循环率：70%用来降温塔保湿 垃圾回收利用：减压蒸馏食物残渣量较老式工艺流程降低60%